竟然还小赚了一波。
而这一切，都是吕尧希望看到的。
新罗人骨子里的自卑，和现代经济发展带来的自傲，形成了他们非常拧巴别扭的性格，如果是内部有问题，他们会跳出来搞事情。
可一旦有外部的压力挤压过来，他们就会瞬间拧成一股。
这种特性不单是新罗有，东大和霓虹也有。
所以吕尧在东大和霓虹制造舆论气氛，跟着抬出财经媒体，动用荣念晴那边的力量做空三星，让内卑外倨的新罗人主动护盘。
那么接下来，他就要开始砸盘了。
关于三星这一波舆论，一直从九月上旬延续到九月的中旬。
九月十二号这天，沉默许久的梁伯嵩发表了一篇公开论文，这篇论文中，梁伯嵩先生用非常细致且通俗易懂的语言，阐述了他主张的“鳍式场效应晶体管”和“全环绕栅极晶体管”工艺上的不同，以及不同工艺带来的性能，功耗方面的不同。
最后的结论就是：
“鳍式场效应晶体管”在工艺理念上全面领先“全环绕栅极晶体管”，“全环绕栅极晶体管”不仅需要更先进的EUV光刻机才能制造，同时，相比“鳍式场效应晶体管”工艺制造出来的芯片，“全环绕栅极晶体管”工艺做出来的芯片，功耗将会增加百分之10，性能却要因此弱上百分之7左右。
而“鳍式场效应晶体管”，越是高精越是微观，他所能带来的性能提升越明显，功耗消耗越小。
最要命的是，三星本土技术团队目前正在研发的路线，良品率是无法得到有效控制的。
在芯片制程工艺推进至7nm，5nm时，他所掌握的“鳍式场效应晶体管”工艺，在性能上将超出三星的工艺百分之15左右，功耗降低百分之20左右，良品率更是可以控制在百分之95。
这篇公开论文一出，业界直接炸了。
那岂不是说，梁伯嵩掌握的“鳍式场效应晶体管”就是未来半导体芯片的版本答案？
很多业内大佬当天就针对那篇论文研究起来，而因为这一篇论文，三星的股票再次开始暴跌，仅仅两天时间，三星的股票就跌了百分之10。
这让很多为三星护盘的新罗人资产也瞬间蒸发了百分之10。
再热烈的民族自豪感，面对资产的疯狂缩水，也是捉襟见肘的啊。
很多见势不妙的新罗人一边嘴上在网上叫嚣着不要抛售，拿住稳赢，一边暗地里暗戳戳的开始疯狂出货。
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